တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း လုပ်ငန်းစဉ်များသည် 3nm၊ 2nm နှင့်အထက်သို့ တိုးတက်လာသည်နှင့်အမျှ စဉ်ဆက်မပြတ် အပူချိန်နှင့် စိုထိုင်းဆ အခန်းများသည် ကွင်းဆက်တစ်ခုလုံး ထုတ်ကုန် အတည်ပြုခြင်းအတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပြီး သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးမှ အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုအထိ တည်ငြိမ်ပြီး တိကျသော ပတ်ဝန်းကျင်အခြေအနေများကို ပေးစွမ်းပါသည်။
မြင့်မားသောတိကျမှုထိန်းချုပ်မှု (±2% RH စိုထိုင်းဆတိကျမှု) နှင့် ISO 17025 စံနှုန်းများနှင့် ကိုက်ညီမှုရှိသောကြောင့် ဤအခန်းများသည် တသမတ်တည်းရှိပြီး ထပ်ခါတလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်သော စမ်းသပ်မှုရလဒ်များကို သေချာစေပြီး စွမ်းဆောင်ရည်အတည်ပြုချက်တွင် ပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာဝင်ရောက်စွက်ဖက်မှုကို ဖယ်ရှားပေးပါသည်။
semiconductor wafer ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် burn-in testing တို့တွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြပြီး အစိတ်အပိုင်းတည်ငြိမ်မှုကို အတည်ပြုရန်၊ အလားအလာရှိသော ချို့ယွင်းချက်များကို စောစီးစွာ ရှာဖွေတွေ့ရှိရန်နှင့် စွမ်းဆောင်ရည် ယိုယွင်းမှုကို ကာကွယ်ရန်အတွက် ၎င်းတို့သည် တကယ့်အလုပ်လုပ်ခြင်းနှင့် သိုလှောင်မှုပတ်ဝန်းကျင်များကို တုပပါသည်။
အသုံးပြုရလွယ်ကူသော ဉာဏ်ရည်ထက်မြက်သော ထိန်းချုပ်မှုများ၊ အချိန်နှင့်တပြေးညီ အချက်အလက်စောင့်ကြည့်ခြင်းနှင့် စွမ်းအင်ချွေတာသော ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသော ဒီဇိုင်းတို့ တပ်ဆင်ထားသောကြောင့် ၎င်းတို့သည် အလိုအလျောက် လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ချောမွေ့စွာ ပေါင်းစပ်ထားပြီး မြင့်မားသော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းထားစဉ်တွင် လုပ်ငန်းလည်ပတ်မှု ကုန်ကျစရိတ်များကို လျှော့ချပေးပါသည်။
ဤအခန်းများသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်ကုန်အရည်အသွေးကို ကာကွယ်ရန်အတွက် အဓိကကျပြီး ဓာတ်ခွဲခန်း R&D နှင့် ကြီးမားသောထုတ်လုပ်မှု နှစ်မျိုးလုံးအတွက် ယုံကြည်စိတ်ချရသော တိကျမှုအတည်ပြုချက်ကို ပေးဆောင်ကာ လုပ်ငန်းများအနေဖြင့် အဆင့်မြင့်ဈေးကွက်တွင် ယှဉ်ပြိုင်နိုင်ရန် ကူညီပေးပါသည်။
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၆ ခုနှစ်၊ ဖေဖော်ဝါရီလ ၂၄ ရက်